中国の大手チップ製造会社が国内で初めて製造された7nmチップ用の先端リソグラフィー装置を試験している。規制当局が米国のライバル企業であるNVIDIA Corporation (NASDAQ:NVDA) に対する監視を強化している中でである。
SMICが国産リソグラフィー技術を試験
中国の大手チップメーカーであるSemiconductor Manufacturing International Corporation（SMIC）は、上海のスタートアップ企業であるYuliangshengが製造した深紫外線リソグラフィー装置を使用した試運転を開始したと、FT紙は報じた。
この機械は、中国がこれまでに試みた中で最も先進的な外国技術依存の軽減策であり、米国の輸出規制を回避するためのものである。アナリストは、もし成功すれば、この技術革新はAIに不可欠なチップの製造における自給自足への重要な一歩を印すことになると述べた。
Lin Qingyuan氏（バーンスタインの半導体アナリスト）は、「もし成功すれば、中国企業にとって重要な一歩となるだろう。この技術革新を基に、より高度な機械の開発に着手できるからだ」と述べた。
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国産装置で7nm製造を目指す
この試験装置は28nmチップの製造に使われており、7nmプロセッサの製造を目的とした多重パターン技術が採用されていると報告書は述べている。
理論的には、この装置を使って歩留まりの低い5nmチップの製造も可能だが、今年後半に2nmチップの量産を予定している世界のリーダー企業である台湾セミコンダクター・マニュファクチャリング（NYSE:TSM）からはまだまだ遅れを取っている。
Yuliangshengの機械部品のほとんどは国産だが、一部は依然として海外から調達している。SMICは、この装置が量産に必要な生産の安定性と歩留まりに達するまでには長い道のりがある。
中国がNvidiaに独禁法調査
SMICが前進している一方で、北京はNvidiaに対する圧力を強めている。
月曜日に、中国の市場規制当局はNvidiaが2020年にイスラエルのチップメーカーであるMellanoxを買収したことに対する独占禁止法調査を拡大し、条件付き承認の規定違反を主張した。
課される可能性のある罰則としては、中国での前年の売上高の10％に相当する罰金が含まれる可能性がある。同市場は昨年度のNvidiaの総売上高のおよそ13％を占めていた。
中国はまた、テキサス・インスツルメンツやアナログ・デバイセズを含む米国の半導体企業に対しても、反ダンピングおよび反差別の調査を開始している。
この動きは、米中両国がマドリードで敏感な貿易交渉を行っていることを受けて行われたもので、半導体が両国の競争に依然として中心的な役割を果たしていることを浮き彫りにしている。
戦略的な競争が激化
国産技術の飛躍的な進歩と規制当局による取り締まりの二つの側面は、北京の戦略を浮き彫りにしている。すなわち、国内の半導体能力の向上と同時に、米国のライバル企業に圧力をかけることである。
試作品を持つことは一つのことであるが、バーンスタインのLin氏は、それを量産に乗せてASMLと競合させることは別の問題であると警告した。「それにはさらに数年かかるかもしれない」。
現時点では、SMICは国産リソグラフィー装置を用いたチップの量産を2027年までに目指している。中国の半導体自給自足の推進が世界のAI競争の形を変えつつある中でである。
価格動向：ベンジンガ・プロによれば、今年これまでにNvidia株は26.44％上昇しており、過去12ヶ月間では51.29％の上昇を見せている。
BenzingaのEdge Stock Rankingsによると、NVDAは短期、中期、長期の全ての期間で強い勢いを維持している。追加の洞察はこちらをご覧ください。
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